薄膜電阻穩(wěn)定性取決于金屬薄膜的厚度

來源：萬利隆電子人氣：發(fā)布時間：2020-09-01

薄膜電阻元件是一層薄金屬層，通常真空濺射沉積在圓柱形高純度陶瓷芯上。有時使用的是除濺射外的其他技術(shù)。沉積的金屬通過在低溫下長時間保存人工老化。這樣可以提高電阻器的精度。電阻材料通常是鎳鉻(NiCr)合金材料，但在特殊應(yīng)用中也使用其他合金材料，如錫和銻、金與鉑和氮化鉭等電阻合金材料。

薄膜電阻器通過真空濺射沉積生產(chǎn)有很多優(yōu)點，不過薄膜電阻器穩(wěn)定性和電阻很大程度上取決于金屬薄膜的厚度(50- 250nm)。更大的層厚度導(dǎo)致更好的穩(wěn)定性和更低的電阻值。在兩端有一個金屬蓋與連接導(dǎo)線壓在一起。在此之后，通過在薄金屬層上切割螺旋形槽來實現(xiàn)所需的電阻，這通常是由激光，而在過去使用噴砂和研磨技術(shù)。

薄膜電阻中的碳膜電阻器使用同樣的技術(shù)來調(diào)整電阻。電阻器上覆蓋著幾層單獨烘烤的涂層。該涂層保護不受濕氣和機械應(yīng)力的影響，并優(yōu)選具有高介電強度。電阻器的值用彩色代碼帶或文字標(biāo)記。金屬薄膜電阻的公差為0.1%,0.25%,0.5%,1%和2%等等規(guī)格。目前金屬薄膜電阻的溫度系數(shù)通常在50 ~ 100ppm /K之間。隨著電阻技術(shù)的不斷發(fā)展，可以有效的為電阻器帶來更多的精準(zhǔn)度。

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