低溫漂薄膜電阻最新研發(fā)電阻生產(chǎn)技術有哪些優(yōu)勢

來源：萬利隆電子閱讀量：2000發(fā)布時間：2019-04-04

低溫漂薄膜電阻生產(chǎn)方式有很多，隨著科技的進步電阻生產(chǎn)技術有了很大的提高，生產(chǎn)低溫漂薄膜電阻也進行電阻技術改革，這種新型方式生產(chǎn)薄膜電阻一般是在干凈的玻璃或者陶瓷基底上，依次沉積負電阻溫度系數(shù)材料層、正電阻溫度系數(shù)材料層和金屬電極層，得到薄膜電阻；對薄膜電阻進行熱處理；

熱處理后的薄膜電阻的金屬電極層進行刻蝕，得到預期圖形；再對正電阻溫度系數(shù)材料層進行刻蝕得到預期線條圖案；調(diào)整負電阻溫度系數(shù)材料層、正電阻溫度系數(shù)材料層的面積，得到溫度系數(shù)≤±10ppm/℃的低溫度系數(shù)薄膜電阻；

得低溫度系數(shù)薄膜電阻上表面制備鈍化保護層，通過光刻法刻蝕露出金屬電極層，得到低電阻溫度系數(shù)的薄膜電阻。為了進一步的得到薄膜電阻，通常采用金屬電極層的刻蝕為光刻、濕法腐蝕的方法。正電阻溫度系數(shù)材料層的刻蝕為光刻、離子刻蝕的方法，負電阻溫度系數(shù)材料層、正電阻溫度系數(shù)材料層的面積調(diào)整通過離子刻蝕和激光調(diào)阻的方法；鈍化保護層制備通過PECVD沉積的方法。

薄膜電阻的基底為玻璃或陶瓷；基底上為負電阻溫度系數(shù)材料層，其上設置正溫度系數(shù)材料層，正溫度系數(shù)材料層全部或者部分覆蓋負電阻溫度系數(shù)材料層；正溫度系數(shù)材料層上表面設有金屬電極層以及非金屬電極層區(qū)域的鈍化保護層。

低溫漂薄膜電阻最新新型生產(chǎn)方法的優(yōu)點是采用電阻結(jié)構(gòu)采用負電阻溫度系數(shù)材料層、正電阻溫度系數(shù)材料層的雙層復合薄膜結(jié)構(gòu)，能夠靈活調(diào)節(jié)電阻溫度系數(shù)，使其具有低電阻溫度系數(shù)；這種電阻結(jié)構(gòu)采用薄膜工藝，薄膜圖形精度高，體積小，此外雙層薄膜結(jié)構(gòu)，具有正溫度系數(shù)的材料層覆蓋具有負電阻溫度系數(shù)的材料層，可以有效提高電阻穩(wěn)定性，兼顧薄膜電阻的高精度與低溫度系數(shù)。

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此文關鍵詞：薄膜電阻電阻生產(chǎn)